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国家标准ＧＢ２７５８１－２０１１《电磁屏蔽膜化学镀铜溶液镍离子和铜离子含量测定方法》介绍
国家标准ＧＢ２７５８１－２０１１所采用的测定方法适用于电磁波屏蔽膜用化学镀铜溶液中镍离子含量的测试。
电磁屏蔽膜所用化学镀铜溶液，是用ＣｕＳＯ４·５Ｈ２Ｏ和ＮｉＳＯ４·６Ｈ２Ｏ配制成一定浓度的水溶液，在生产电磁屏蔽膜过程中主要消耗电镀液中的铜离子，少量的镍离子，为保持铜离子、镍离子的浓度，需要不断地补加ＣｕＳＯ４·５Ｈ２Ｏ和Ｎｉ－ＳＯ４·６Ｈ２Ｏ溶液，这就需要快速测定化学镀铜溶液中铜离子、镍离子的浓度，才能够计算出需要补加的量。通过查阅国内外标准及有关技术资料，目前没有该类方法的国家标准和行业标准，在已有制定标准中，铜、镍含量分析大部分采用火焰原子吸收光谱法测定，而本标准对电磁屏蔽膜所用化学镀铜溶液中铜离子、镍离子的含量测定是常量分析，且需要快速测定，故采用了化学分析方法。在标准起草过程中，征求了全国１５家单位的意见，对标准进行完善、修改，并进行多次准确度、重现性试验，证明本标准所采用的测定方法。完全可以满足测试需求。
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本标准由中国乐凯胶片集团公司牵头起草，为光学功能薄膜标准化技术委员会归口，于２００８年完成《电磁屏蔽膜化学镀铜溶液镍离子含量测定方法》（计划编号：２００７３０７１－Ｔ－６０６）和《电磁屏蔽膜化学镀铜溶液铜离子含量测定方法》（计划编号：２００７３０７２－Ｔ－６０６）国家标准（报批稿）的制订工作。２０１１年５月，国家标准化管理委员会农业标准食品部在标准审批过程中，提出了将“电磁屏蔽膜化学镀铜溶液镍离子含量测定方法”和“电磁屏蔽膜化学镀铜溶液铜离子含量测定方法”两个标准合并的建议，经全国光学功能薄膜材料标委会慎重研究，同意将“电磁屏蔽膜化学镀铜溶液镍离子含量测定方法”和“电磁屏蔽膜化学镀铜溶液铜离子含量测定方法”两个国家标准报批稿合并，合并后的标准名称为“电磁屏蔽膜化学镀铜溶液镍离子和铜离子含量测定方法”
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电磁屏蔽即利用屏蔽材料阻隔或衰减被屏蔽区域与外界的电磁能量传播。电磁屏蔽的作用原理是利用屏蔽体对电磁能流的反射、吸收和引导作用，其与屏蔽结构表面和屏蔽体内部感生的电荷、电流与极化现象密切相关。屏蔽按其原理分为电场屏蔽(静电屏蔽和交变电场屏蔽)、磁场屏蔽(低频磁场和高频磁场屏蔽)和电磁场屏蔽(电磁波的屏蔽)。通常所说的电磁屏蔽是指后一种，即对电场和磁场同时加以屏蔽。
按照屏蔽作用原理，屏蔽体对屏蔽效能的贡献分为三部分：
(1)屏蔽体表面因阻抗失配引起的反射损耗；
(2)电磁波在屏蔽材料内部传输时，电磁能量被吸收引起传输损耗或吸收损耗；
(3)电磁波在屏蔽材料内壁面之间多次反射引起的多次反射损耗。由此可以得到影响材料屏蔽效能的三个基本因素，即材料的电导率、磁导率及材料厚度。这也是屏蔽材料研究本身所必须关注的问题和突破口。当然，对于电磁屏蔽体结构，其屏蔽效能还与结构、形状、气密性等有关，对于具体问题，还需要考虑被屏蔽的电磁波频率、场源性质等。
应用：F/PCB电磁波屏蔽膜、手机、平板、智能穿戴、相机等
基于电磁屏蔽膜在FPC应用上日趋广泛，以片状银粉作为导电介质，以油墨作为绝缘体，以环氧树脂、固化剂等试剂混合为成膜剂设计出用于FPC软性电路版上的电磁屏蔽薄膜，本电磁薄膜屏蔽效能达到55dB，压合后厚度在15-21um，具有良好的制成适用性、耐高温、抗化学性，符合环保要求，性价比高.为最适合高速传输FPC用的电磁波屏蔽膜。在智慧型手机与平板电脑要求高速化的时代，对于具备优越传输特性的FPC要求也变得更高。
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与过去的电磁波屏蔽膜相比，SF-PC3100-C的传输损失较小、得以实现FPC的高速传输。总厚度8μm的超薄型电磁波屏蔽膜。即使温度环境在-20℃～+60℃的宽广范围下，弯折半径在0.65mm下，挠折、弯曲寿命也可以达到100万次以上。此外，由于不含卤素，但仍然具有高耐燃特性，燃烧等级为UL94VTM-0（登录）。尽管实现了超薄型，但其屏蔽性能等的基本特性以及在FPC上的加工性上，也与过去的SF-PC5500一致。可满足手机末端用途「更薄」、「更轻」的特性要求。SF-PC6000-U1为针对基板段差（软硬结合板及多层软板）填补性增加所设计的电磁波屏蔽膜。